太陽(yáng)能硅片雷士超聲波清洗機(jī)
技術(shù)參數(shù)
電源電壓:220V
超聲波功率:12KW
超聲波頻率40KHz
加熱功率:6kw/槽
性能特點(diǎn)
1、利用超聲波空化作用,并且設(shè)計(jì)各槽上下拋動(dòng),使污垢徹底脫落;
2、根據(jù)清洗工藝設(shè)置超聲波電控箱,PLC全程控制,操作簡(jiǎn)便;
3、槽子底部設(shè)有接渣口,沉淀污垢及時(shí)排渣;
4、適當(dāng)加入弱堿,加快清洗的速度,提高清洗的效率
太陽(yáng)能光伏專(zhuān)用設(shè)備 ,包括制絨酸洗設(shè)備、去磷硅玻璃(PSG)、擴(kuò)散爐、刻蝕機(jī)、硅片清洗機(jī)、硅芯硅料清洗機(jī)等,
清洗范圍:
半導(dǎo)體硅片、太陽(yáng)能電池硅片、晶體、電阻、電容、PCB板、IC芯片、接插件、連接件、轉(zhuǎn)接器、硅片、三*管、二*管、電子線路板、電腦主板、壓電陶瓷片、顯象管、電真空器件等電子器件的生產(chǎn)加工過(guò)程工序間的清洗。
清洗原理
借助于表面活性劑的潤(rùn)濕、滲透、乳化、增溶、分散等作用, 使沾污在Si片表面的附著力削弱, 再施以加熱、超聲波等物理方法, 使沾污脫離 Si片表面, 而進(jìn)人清洗液中被乳化 、分散開(kāi)。
在清洗液中超聲清洗Si片表面其原理可用“空化” 現(xiàn)象來(lái)解釋: 超聲波振動(dòng)在液體中傳播的音波壓強(qiáng)達(dá)到*個(gè)大氣壓時(shí), 其功率密度為O.35 W/cm, 這時(shí)超聲波的音波壓強(qiáng)峰值就可達(dá)到真空或負(fù)壓, 但實(shí)際上無(wú)負(fù)壓存在, 因此在液體中產(chǎn)生*個(gè)很大的壓力, 將液體分子拉裂成空洞*空化核。此空洞非常接近真空, 它在超聲波壓強(qiáng)反向達(dá)到*大時(shí)破裂, 由于破裂而產(chǎn)生的強(qiáng)烈沖擊將Si片表面的污物撞擊下來(lái),而這種由無(wú)數(shù)細(xì)小的空化氣泡破裂而產(chǎn)生的沖擊波現(xiàn)象稱(chēng)為“空化”現(xiàn)象。在超聲清洗中, 表面活性劑也發(fā)揮著重要作用, 通過(guò)表面活性劑的乳化、分散作用, 可以顯著削弱沾污對(duì)Si片表面的吸附, 從而獲得好的清洗效果。